| 公開(公告)號 | CN1980912A |
| 公開(公告)日 | 2007.06.13 |
| 申請(專利)號 | CN200580022209.7 |
| 申請日期 | 2005.07.01 |
| 專利名稱 | 吡唑衍生物 |
| 主分類號 | C07D401/14(2006.01)I |
| 分類號 | C07D401/14(2006.01)I;C07D417/14(2006.01)I;A61K31/4545(2006.01)I;A61K31/496(2006.01)I;A61K31/497(2006.01)I;A61K31/501(2006.01)I;A61K31/5377(2006.01)I;A61K31/5513(2006.01)I;A61P3/10(2006.01)I;A61P7/02(2006.01)I;A61P9/10(2006.01)I;A61P9/14(2006.01)I;A61P13/1 |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2004.7.1 JP 195497/2004 |
| 申請(專利權(quán))人 | 第一制藥株式會社 |
| 發(fā)明(設計)人 | 金谷直明;石山崇;武藤亮;渡邊俊之;落合雄一 |
| 地址 | 日本東京 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | 2005-07-01 PCT/JP2005/012176 |
| 進入國家日期 | 2006.12.30 |
| 專利代理機構(gòu) | 上海專利商標事務所有限公司 |
| 代理人 | 范 征 |
| 國省代碼 | 日本;JP |
| 主權(quán)項 | 通式(I)： 表示的化合物、其鹽或其溶劑合物， 式中，Ar1表示可具有1～3個取代基的苯基或無取代的5或6元芳香族雜環(huán)基，Ar2表示(i)無取代的苯基，(ii)被具有選自可被取代的氨基甲�；⒖杀蝗〈陌被�、羥基、低級烷氧基及鹵素原子的1～3個基團或原子的低級烷基取代的苯基，或(iii)被選自可被取代的低級烷基、低級炔基、低級烷�；⒖杀蝗〈陌被柞；⑶杌�、可被取代的氨基、羥基、可被取代的低級烷氧基及鹵素原子的1～3個基團或原子取代的5或6元芳香族雜環(huán)基，X為由通式(II)： 表示的基團，式中的環(huán)狀結(jié)構(gòu)表示除了上式中記載的氮原子以外還可具有選自氮原子、氧原子及硫原子的1個雜原子作為構(gòu)成原子的4～7元雜環(huán)基，該4～7元雜環(huán)基可被選自可被取代的低級烷基、可被取代的亞烷基、可被取代的氨基甲�；�、可被取代的氨基、羥基、低級烷氧基、氧代基、低級烷酰基、低級烷基磺酰基及鹵素原子的1～4個基團或原子取代。 |
| 摘要 | 通式(I)：表示的化合物、其鹽或其溶劑合物及醫(yī)藥品，式中，Ar1表示可具有1～3個取代基的苯基或無取代的5或6元芳香族雜環(huán)基，Ar2表示(i)無取代的苯基，(ii)被具有選自氨基甲酰基、氨基、羥基、低級烷氧基及鹵素原子的1～3個基團或原子的低級烷基取代的苯基，或(iii)被選自低級烷基、低級炔基、低級烷�；�、氨基甲�；⑶杌�、氨基、羥基、低級烷氧基及鹵素原子的1～3個基團或原子取代的5或6元含氮芳香族雜環(huán)基，X為由通式(II)：表示的基團，式中的環(huán)狀結(jié)構(gòu)表示除了上式中記載的氮原子以外還可具有選自氮原子、氧原子及硫原子的1個雜原子作為構(gòu)成原子的4～7元雜環(huán)基，該4～7元雜環(huán)基可被選自低級烷基、氨基甲�；�、氨基、羥基、低級烷氧基、氧代基、低級烷�；⒌图壨榛酋；胞u素原子的1～4個基團或原子取代。 |
| 國際公布 | 2006-01-12 WO2006/004027 日 |
