公開(公告)號 | CN1854140A |
公開(公告)日 | 2006.11.01 |
申請(專利)號 | CN200610077595.6 |
申請日期 | 2006.04.28 |
專利名稱 | 呋脲芐青霉素鈉晶體及其合成方法 |
主分類號 | C07D499/46(2006.01)I |
分類號 | C07D499/46(2006.01)I |
分案原申請?zhí)? | |
優(yōu)先權 | 2005.4.28 CN 200510066559.5 |
申請(專利權)人 | 北京信匯科技有限公司 |
發(fā)明(設計)人 | 蔣征昊 |
地址 | 100085北京市海淀區(qū)上地7街1號匯眾大廈9層 |
頒證日 | |
國際申請 | |
進入國家日期 | |
專利代理機構 | 北京邦信陽專利商標代理有限公司 |
代理人 | 黃澤雄;邵毓琴 |
國省代碼 | 北京;11 |
主權項 | 一種結構式如下的呋脲芐青霉素鈉晶體, 該晶體具有如下X-射線粉末衍射圖譜,該圖譜是由λ=1.5406銅靶穿過石墨單色儀而獲得的: d I/I0 14.66-15.37 1 9.90-10.08 0.23-0.31 8.67-8.79 0.20-0.34 4.97-5.04 0.44-0.65 4.08-4.14 0.23-0.42 其中d為晶面間距,I/I0為相對強度。 |
摘要 | 本發(fā)明涉及高純度的穩(wěn)定的呋脲芐青霉素鈉晶體及其合成方法。該方法操作簡單,生產(chǎn)周期短,有機溶劑用量少,實現(xiàn)了溶媒結晶,并且收率達到了90-95%。經(jīng)高壓液相色譜測定,本發(fā)明的呋脲芐青霉素鈉晶體的純度到達了91%以上。 |
國際公布 |