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呋脲芐青霉素鈉晶體及其合成方法

醫(yī)藥數(shù)據(jù)庫中心 藥學論壇 北京信匯科技有限公司/蔣征昊
公開(公告)號 CN1854140A  
公開(公告)日 2006.11.01  
申請(專利)號 CN200610077595.6  
申請日期 2006.04.28  
專利名稱 呋脲芐青霉素鈉晶體及其合成方法  
主分類號 C07D499/46(2006.01)I  
分類號 C07D499/46(2006.01)I  
分案原申請?zhí)?  
優(yōu)先權 2005.4.28 CN 200510066559.5  
申請(專利權)人 北京信匯科技有限公司  
發(fā)明(設計)人 蔣征昊  
地址 100085北京市海淀區(qū)上地7街1號匯眾大廈9層  
頒證日  
國際申請  
進入國家日期  
專利代理機構 北京邦信陽專利商標代理有限公司  
代理人 黃澤雄;邵毓琴  
國省代碼 北京;11  
主權項 一種結構式如下的呋脲芐青霉素鈉晶體, 該晶體具有如下X-射線粉末衍射圖譜,該圖譜是由λ=1.5406銅靶穿過石墨單色儀而獲得的: d I/I0 14.66-15.37 1 9.90-10.08 0.23-0.31 8.67-8.79 0.20-0.34 4.97-5.04 0.44-0.65 4.08-4.14 0.23-0.42 其中d為晶面間距,I/I0為相對強度。  
摘要 本發(fā)明涉及高純度的穩(wěn)定的呋脲芐青霉素鈉晶體及其合成方法。該方法操作簡單,生產(chǎn)周期短,有機溶劑用量少,實現(xiàn)了溶媒結晶,并且收率達到了90-95%。經(jīng)高壓液相色譜測定,本發(fā)明的呋脲芐青霉素鈉晶體的純度到達了91%以上。  
國際公布  
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