| 公開(公告)號 | CN1638742A |
| 公開(公告)日 | 2005.07.13 |
| 申請(專利)號 | CN03804387.4 |
| 申請日期 | 2003.02.20 |
| 專利名稱 | 緩釋制劑及其制造方法 |
| 主分類號 | A61K9/22 |
| 分類號 | A61K9/22;A61K47/04;A61K47/12 |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2002.2.21 JP 44460/2002 |
| 申請(專利權(quán))人 | 大塚制藥株式會社 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人 | 友平裕三 |
| 地址 | 日本東京都 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | PCT/JP2003/001837 2003.2.20 |
| 進(jìn)入國家日期 | 2004.08.20 |
| 專利代理機構(gòu) | 北京市金杜律師事務(wù)所 |
| 代理人 | 楊宏軍 |
| 國省代碼 | 日本;JP |
| 主權(quán)項 | 一種緩釋制劑，是在將低熔點物質(zhì)及藥理活性物質(zhì)熔融造粒得到的粒子表面熔融涂覆(1)水不溶性高分子物質(zhì)的微粉或(2)水不溶性高分子物質(zhì)與選自滑石粉、硬脂酸鎂及氧化鈦中的至少1種微粉而得到的。 |
| 摘要 | 本發(fā)明提供一種能夠長時間釋放藥理活性物質(zhì)的緩釋制劑及其制造方法。在將低熔點物質(zhì)及藥理活性物質(zhì)熔融造粒得到的粒子表面熔融涂覆(1)水不溶性高分子物質(zhì)的微粉或(2)水不溶性高分子物質(zhì)與選自滑石粉、硬脂酸鎂及氧化鈦中的至少1種的微粉，由此制造本發(fā)明的緩釋制劑。 |
| 國際公布 | WO2003/070223 日 2003.8.28 |
