| 公開(公告)號 | CN1304001C |
| 公開(公告)日 | 2007.03.14 |
| 申請(專利)號 | CN00810368.2 |
| 申請日期 | 2000.07.14 |
| 專利名稱 | 含有硝基咪唑的皮膚病外用藥 |
| 主分類號 | A61K31/4164(2006.01)I |
| 分類號 | A61K31/4164(2006.01)I;A61P17/00(2006.01)I |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 1999.7.16 JP 234496/99;1999.7.21 JP 206508/99;1999.9.24 JP 271077/99;1999.9.28 JP 312840/99;2000.1.14 JP 42012/00;2000.2.4 JP 67746/00 |
| 申請(專利權(quán))人 | 株式會社昭榮 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人 | 西牟田西住;西牟田和弘 |
| 地址 | 日本福岡縣福岡市 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | 2000-07-14 PCT/JP2000/004728 |
| 進(jìn)入國家日期 | 2002.01.14 |
| 專利代理機構(gòu) | 中國專利代理(香港)有限公司 |
| 代理人 | 鐘守期 |
| 國省代碼 | 日本;JP |
| 主權(quán)項 | 一種組合物在制備治療或預(yù)防異位性皮炎的外用藥物中的應(yīng)用，所述組合物含有作為硝基咪唑衍生物的下述通式(I)所示化合物、其藥學(xué)上可接受的鹽或其酯作為有效成分：式中R1、R3和R4互相獨立，可以相同或不同，表示氫原子、硝基、低級烷基、被至少1個選自<取代基組α>和<取代基組β>的相同或不同的取代基所取代的低級烷基、低級鏈烯基、或者被至少1個選自<取代基組α>和<取代基組β>的相同或不同的取代基所取代的低級鏈烯基；R2表示氫原子、低級烷基、被至少1個選自<取代基組α>和<取代基組β>的相同或不同的取代基所取代的低級烷基、低級鏈烯基、或者被至少1個選自<取代基組α>和<取代基組β>的相同或不同的取代基所取代的低級鏈烯基，條件是R1、R3和R4中任一個為硝基，<取代基組α>低級烷氧基、被至少1個選自<取代基組β>的相同或不同的取代基所取代的低級烷氧基、低級烷基羰基氧基、被至少1個選自<取代基組β>的相同或不同的取代基所取代的低級烷基羰基氧基、低級烷基磺酰基、被至少1個選自<取代基組β>的相同或不同的取代基所取代的低級烷基磺�；�、環(huán)烷基、被至少1個選自<取代基組β>的相同或不同的取代基所取代的環(huán)烷基、雜芳基、被至少1個選自<取代基組β>的相同或不同的取代基所取代的雜芳基、芳基以及被至少1個選自<取代基組β>的相同或不同的取代基所取代的芳基，<取代基組β>羥基、巰基、鹵原子、氨基、低級烷基氨基、低級烷氧基、低級鏈烯基、氰基、羧基、氨基甲酰氧基、羧基酰胺基、硫代羧基酰胺基和嗎啉基。 |
| 摘要 | 含有下述通式(I)所示硝基咪唑衍生物的皮膚病用外用藥，式中R1、R3和R4可以相同或不同，表示氫原子、硝基、低級烷基、被取代的低級烷基、低級鏈烯基或被取代的低級鏈烯基；R2表示氫原子、低級烷基、被取代的低級烷基、低級鏈烯基、被取代的低級鏈烯基，條件是R1、R3和R4中任一個為硝基。 |
| 國際公布 | 2001-01-25 WO2001/005400 日 |
