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您現(xiàn)在的位置: 醫(yī)學(xué)全在線 > 藥學(xué)理論 > 中國藥品專利文獻 > 正文:含氮的稠合雙環(huán)化合物專利檢索:專利號/專利人/發(fā)明人
    

含氮的稠合雙環(huán)化合物

公開(公告)號 CN101023083A  
公開(公告)日 2007.08.22  
申請(專利)號 CN200580031675.1  
申請日期 2005.07.22  
專利名稱 含氮的稠合雙環(huán)化合物  
主分類號 C07D471/04(2006.01)I  
分類號 C07D471/04(2006.01)I;C07D487/04(2006.01)I;A61K31/437(2006.01)I;A61K31/519(2006.01)I;A61P1/00(2006.01)I;A61P1/10(2006.01)I;A61P1/12(2006.01)I;A61P3/14(2006.01)I;A61P11/00(2006.01)I;A61P25/16(2006.01)I;A61P25/24(2006.01)I;A61P25/28(2006.01)I;A61P43/00(2006.  
分案原申請?zhí)?  
優(yōu)先權(quán) 2004.7.23 JP 216500/2004;2004.7.23 JP 216501/2004  
申請(專利權(quán))人 田邊制藥株式會社  
發(fā)明(設(shè)計)人 高室?guī)r;河南三郎;坪井康范;冰見山利之;長谷川子;持田英樹;能城廣司  
地址 日本大阪府  
頒證日  
國際申請 2005-07-22 PCT/JP2005/013459  
進入國家日期 2007.03.20  
專利代理機構(gòu) 中國專利代理(香港)有限公司  
代理人 劉 冬;李炳愛  
國省代碼 日本;JP  
主權(quán)項 下式[I]的化合物或其藥學(xué)上可接受的鹽: 其中 R0為氫原子、鹵原子、氰基、低級烷氧基、低級烷基、氨基(所述氨基可被低級烷基取代)或雜芳基, R1為下式的基團: R11和R12可相同或不同,為氫原子、低級烷基、羥基-低級烷基、環(huán)-低級烷基、低級烷;⒌图壪;、低級烷氧基-低級烷基、環(huán)-低級烷基-羰基、氨基-低級烷基(所述氨基部分可被低級烷基取代)、低級烷氧基-羰基、含氮雜環(huán)基取代的低級烷基或被低級烷基任選取代的含氮雜環(huán)基,或兩基團在它們末端處相互結(jié)合,與相鄰的氮原子一起形成含氮雜環(huán)基(所述雜環(huán)基可被低級烷基取代),X為N或CH,m為整數(shù)0或1, A為下式的基團: X1和X2中之一為N或CH,而另一個為N,Alk為低級亞烷基,n為整數(shù)0或1, D1、D2和D3為N或CH, R2為被1或2個選自以下的基團任選取代的芳基(或雜芳基):鹵原子、被鹵原子任選取代的低級烷基、被鹵原子任選取代的低級烷氧基、低級烷酰基和被1或2個低級烷基任選取代的氨基, R3為氫原子或低級烷基,且 Q為低級亞烷基。  
摘要 一種由以下通式[I]表示的新的含氮的稠合雙環(huán)化合物或該化合物的藥學(xué)上可接受的鹽。它們具有極佳的SK通道阻斷活性,可用作藥物。(在式中,R0表示氫、鹵代等;R1表示式(a)或(b)表示的基團;A表示式(X)或(Y)表示的基團;D1、D2和D3各表示N或CH;R2表示鹵代或任選鹵代的低級烷基等;R3表示氫或低級烷基;Q表示低級亞烷基)。  
國際公布 2006-01-26 WO2006/009245 日  
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