公開(公告)號
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CN101023083A
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公開(公告)日
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2007.08.22
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申請(專利)號
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CN200580031675.1
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申請日期
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2005.07.22
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專利名稱
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含氮的稠合雙環(huán)化合物
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主分類號
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C07D471/04(2006.01)I
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分類號
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C07D471/04(2006.01)I;C07D487/04(2006.01)I;A61K31/437(2006.01)I;A61K31/519(2006.01)I;A61P1/00(2006.01)I;A61P1/10(2006.01)I;A61P1/12(2006.01)I;A61P3/14(2006.01)I;A61P11/00(2006.01)I;A61P25/16(2006.01)I;A61P25/24(2006.01)I;A61P25/28(2006.01)I;A61P43/00(2006.
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分案原申請?zhí)? |
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優(yōu)先權(quán)
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2004.7.23 JP 216500/2004;2004.7.23 JP 216501/2004
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申請(專利權(quán))人
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田邊制藥株式會社
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發(fā)明(設(shè)計)人
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高室?guī)r;河南三郎;坪井康范;冰見山利之;長谷川柚子;持田英樹;能城廣司
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地址
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日本大阪府
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頒證日
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國際申請
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2005-07-22 PCT/JP2005/013459
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進入國家日期
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2007.03.20
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專利代理機構(gòu)
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中國專利代理(香港)有限公司
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代理人
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劉 冬;李炳愛
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國省代碼
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日本;JP
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主權(quán)項
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下式[I]的化合物或其藥學(xué)上可接受的鹽: 其中 R0為氫原子、鹵原子、氰基、低級烷氧基、低級烷基、氨基(所述氨基可被低級烷基取代)或雜芳基, R1為下式的基團: R11和R12可相同或不同,為氫原子、低級烷基、羥基-低級烷基、環(huán)-低級烷基、低級烷;⒌图壪;、低級烷氧基-低級烷基、環(huán)-低級烷基-羰基、氨基-低級烷基(所述氨基部分可被低級烷基取代)、低級烷氧基-羰基、含氮雜環(huán)基取代的低級烷基或被低級烷基任選取代的含氮雜環(huán)基,或兩基團在它們末端處相互結(jié)合,與相鄰的氮原子一起形成含氮雜環(huán)基(所述雜環(huán)基可被低級烷基取代),X為N或CH,m為整數(shù)0或1, A為下式的基團: X1和X2中之一為N或CH,而另一個為N,Alk為低級亞烷基,n為整數(shù)0或1, D1、D2和D3為N或CH, R2為被1或2個選自以下的基團任選取代的芳基(或雜芳基):鹵原子、被鹵原子任選取代的低級烷基、被鹵原子任選取代的低級烷氧基、低級烷酰基和被1或2個低級烷基任選取代的氨基, R3為氫原子或低級烷基,且 Q為低級亞烷基。
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摘要
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一種由以下通式[I]表示的新的含氮的稠合雙環(huán)化合物或該化合物的藥學(xué)上可接受的鹽。它們具有極佳的SK通道阻斷活性,可用作藥物。(在式中,R0表示氫、鹵代等;R1表示式(a)或(b)表示的基團;A表示式(X)或(Y)表示的基團;D1、D2和D3各表示N或CH;R2表示鹵代或任選鹵代的低級烷基等;R3表示氫或低級烷基;Q表示低級亞烷基)。
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國際公布
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2006-01-26 WO2006/009245 日
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